对应用于半导体生产等的曝光装备、涂布/显影装备中 ，，，，制程腔体内的情形空气温湿度举行细密控制 ，，，，以包管制品良率。。。。
对应用于半导体生产等的曝光装备、涂布/显影装备中 ，，，，制程腔体内的情形温湿度举行细密控制 ，，，，以包管制品良率。。。。
对应用于半导体生产等的曝光装备、涂布/显影装备中 ，，，，制程腔体内的情形温湿度举行细密控制
温度控制的精度可达目的温度±0.01℃ ，，，，确保产线情形的稳固性及产品的良率
温度控制精度
±2%RH~±1%RH
主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂细密温湿度控制
温度控制的精度可达目的温度±0.01℃ ，，，，此装备可知足制程情形更精准的温控需求 ，，，，确保产线情形的稳固性及产品的良率。。。。
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